（中央社记者朱则玮台北6日电）国研院仪科中心在今年台湾国际半导体展中，展出自行研发的ALD镀膜系统及可协助半导体产业先进系统设计与新颖材料测试的“原子层沉积联合实验室”服务平台。
2018国际半导体展5日到7日在南港展览馆举行，共计超过2000个摊位，国家实验研究院仪器科技研究中心也参展，展出自行研发的成果。
国研院今天透过新闻稿表示，为了因应产业界对于半导体制程尺寸微缩需求，以及奈米科技于多元科技应用发展，仪科中心深耕原子层沉积技术（ALD）10多年，已提供学界与业界多套自制ALD系统，展出自行研制开发的“电子显微镜试片电子损伤防护镀膜系统”，是一桌上型ALD镀膜系统，专为小尺寸试片与探针制镀超薄奈米结构，具备高密度表面绝缘保护膜制镀品质，并可应用于生物试片与原子分辨率三维重构试片制镀。
除客制化ALD机台设备外，仪科中心的“原子层沉积联合实验室”服务平台提供前驱物材料合成及筛选、关键制程技术开发，协助半导体产业实现先进系统设计与新颖材料测试。
国研院指出，仪科中心近年来全力投入半导体设备关键零组件自制开发，透过在光机电及真空领域深耕逾40年的技术能量，与半导体设备产业进行结合，带动上下游关键零组件在地化发展，提升台湾半导体产业的竞争力。（编辑：郭萍英）1070906
台湾半导体展登场仪科中心秀研发成果
发布时间：2024-11-23
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