在晶圆代工厂及IDM厂于7奈米及更先进制程加速导入极紫外光（EUV）微影技术后，DRAM厂也加入EUV战局。三星电子宣布量产采用EUV技术的DRAM且出货超过百万颗，业界认为SK海力士及美光将会加速评估采用EUV。法人则看好家登（3680）的极紫外光光罩盒（EUV Pod）订单涌入，今年内产能已供不应求。家登表示已提前扩产并做好异地备援生产，备战产能到年底。

虽然新冠肺炎疫情恐对半导体产业造成影响，但晶圆代工厂及IDM厂仍加速建置EUV产能。其中，台积电支援EUV的7+奈米已量产，5奈米将在今年进入量产。三星晶圆代工支援EUV的7奈米在去年底量产，预计今年底5奈米将开始接单生产。英特尔支援EUV技术的7奈米预估明年开始量产自家设计的中央处理器（CPU）。
包括三星、SK海力士、美光等三大DRAM厂去年下半年已开始评估采用EUV技术，以缩短DRAM生产时间及提高微影技术精确度。其中，三星的进度领先同业，近期宣布采用EUV技术的第四代10奈米制程（D1a）已成功量产DDR4颗粒，出货量亦超过百万颗规模，三星预期明年将采用D1a制程量产DDR5/LPDDR5等新一代DRAM。
DRAM产业的特性，是加速先进制程微缩以大幅降低单位生产成本。现在各厂主流的1y/1z奈米仍是采用浸润式微影技术，但多重曝光的生产时间拉长，导致每月产能出现自然减损，而且多重曝光技术生产的DRAM常因可靠性问题而造成客户退货。也因此，三星利用EUV技术减少生产时间及提高可靠性，在满产能投片下有效降低单位生产成本，业界预期SK海力士及美光将为了维持竞争力，提前导入EUV量产。
EUV技术在7奈米逻辑制程及1a奈米DRAM制程顺利导入量产，后续先进制程应用的EUV光罩层数会大幅增加，且每层EUV光罩每年需要的EUV Pod约达250个左右，随着晶圆代工厂、IDM厂、DRAM厂等EUV产能持续开出，EUV Pod需求亦将倍数增加。
家登是全球仅有两家EUV Pod供应商之一，成为EUV大扩产的最大受惠者。（新闻来源：工商时报─涂志豪／台北报导）